光联万物 | NOEIC携创新成果精彩亮相2026武汉光博会

发布时间：2026-05-19

5月18日至20日，第二十一届“中国光谷”国际光电子博览会暨2026武汉光博会在武汉·中国光谷科技会展中心隆重举办。作为国内光电子领域极具影响力的行业盛会，本届展会汇聚行业精英、前沿技术与创新成果，搭建起高水平的交流展示与产业合作平台，现场人流如织、氛围热烈。

展会期间，国家信息光电子创新中心重磅亮相本次盛会，凭借扎实的技术积淀与丰硕的创新成果，成为现场备受关注的焦点。本次参展，创新中心精心规划展示内容，围绕助力量产攻坚、高端器件突围、前瞻技术领航三大核心主题，全方位展现我国信息光电子产业的最新突破与发展成果。

01 助力量产攻坚

在量产攻坚领域，创新中心实现重大突破，正式推出国内首个12英寸40nm硅光流片平台，并成功完成国产薄膜铌酸锂晶圆级工艺线开发。该平台兼具领先的硅光工艺、卓越的器件性能、精准的工艺控制以及高效的流片周期等核心优势，可为客户提供从概念验证、设计开发到量产落地的一站式全流程解决方案。其整体性能达到国际先进水平，能够为800G/1.6T高速光模块提供高性能、低成本的薄膜铌酸锂晶圆芯片，有效破解我国光电子产业量产环节的核心痛点。同时，创新中心聚焦光电子产业核心基础环节，集中展示晶圆制造相关技术成果与产业化应用进展，以关键技术突破助力产业链量产能力提升，进一步夯实我国光电子产业高质量发展的根基。

02 高端器件突围

在高端器件领域，创新中心持续攻坚、奋勇突围，成功推出全球首款170GHz电光强度调制器、高速探测器、高速接收器、窄线宽激光器，打破了国外技术垄断，充分展现了国产高端光电子器件自主可控的坚实成效，为我国光电子产业链供应链安全稳定提供了有力支撑。

03 前瞻技术领航

立足行业长远发展，创新中心聚焦前沿技术探索，集中展示了量子光电子、硅光可编程芯片、超大带宽电光调制器芯片等一系列前沿技术成果。这些技术探索紧扣未来光电子产业发展方向，不仅彰显了创新中心的前瞻研发实力，更将引领行业技术创新潮流，为我国光电子产业抢占未来发展制高点奠定基础。

此外，为更好地服务产业发展、赋能企业创新，创新中心还在展会现场全面展示了芯片流片、封装加工、测试验证及集成系统开发等全链条技术服务，为上下游企业提供全方位技术支撑，助力产业协同发展。

展会现场交流氛围浓厚，众多行业专家、企业代表纷纷驻足创新中心展台，详细了解展示成果的技术细节与应用前景，并围绕产业发展趋势、技术创新方向、产学研协同等话题展开深入交流，对创新中心展示的技术成果、服务能力给予高度评价与充分认可。

     此次亮相2026武汉光博会，不仅充分彰显了国家信息光电子创新中心在光电子技术研发与产业转化领域的强劲实力和行业影响力，更搭建了与产业上下游对接合作的桥梁，有效推动了光电子产业资源整合、协同创新，为我国光电子产业高质量发展注入强劲动力。未来，创新中心将持续深耕光电子领域，聚焦核心技术攻关与产业成果转化，助力我国光电子产业实现更高水平的自主自强。