MOCVD设备

MOCVD(金属有机化学气相沉积),是利用金属有机化合物进行金属输运的一种气相外延生长技术,以有机化合物和氢化物等作为晶体生长源材料,以热分解反应方式在衬底上进行气相外延,生长各种Ⅲ-V族、Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体以及它们的多元固溶体的薄层单晶材料。

MOCVD设备是外延材料生长与芯片生产最为关键的设备,德国AIXTRON公司MOCVD设备采用先进的行星式反应室,保证了外延材料生长的均匀性和重复性。